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Silicon Light

長い道のりを努力して来ました

シリコン・ライト・マシーンズ(Silicon Light Machines “SLM”)は1994年にエシェレ(Echelle)として創設され、GLVの高解像度ディスプレーの商品化を目的としてスタートしました。2000年に高解像度フルカラーのレーザープロジェクションディスプレーの開発に成功し、この分野でのGLV独占使用権はソニーコーポレーションが獲得しました。同年後半にSLMはファンドリーのパートナーであったサイプレスセミコンダクター (サンノゼ)の傘下に入り、長距離情報通信市場向けにGLVベースのダイナミック・ゲイン・イコライザーの開発へと軸足を移しました。しかし2003年の情報通信市場の縮小に伴い、数年前から大日本スクリーン製造(現:SCREENホールディングス)と開発を始めていたCtP(Computer-to-Plate)刷版描画装置へと方針を転換することとなりました。10年以上に渡る共同開発により、このビジネスは徐々に成長し2008年にSLMはSCREENの傘下に加わることになりました。それ以来SLMはスクリーンや他の顧客とともに、直接描画アプリケーション向けの空間光変調器の開発に携わっています。

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1994-1995
1994

GLVテクノロジーがスタンフォード大学の研究室で発明される

GLV高解像度ディスプレーの開発に向けエシェレ(Echelle)創設

1995

シリコン・ライト・マシーンズ(Silicon Light Machines “SLM”)に社名変更

1998

インフォーメーションディスプレー シンポジュームでGLVを発表、論文受賞

SCREENとAGFAとの CtP共同開発を開始

2000

ソニーがディスプレー におけるGLVの独占使用権を獲得

サイプレスセミコンダクターの傘下に入る

GLVベースのオプティカルゲインイコライザーの開発開始

2003

AGFAとSCREENがGLVベースCtPリソグラフィーシステムを導入

2004

Planar Light Valve (PLV)、2次元アナログGLV開発でDAPRAグラント賞獲得

2005

ピクセル数・機能を向上するためのCMOS-MEMS統合開発を開始

2006

CtP用の高効率G1088モジュールを発表

Planar Light Valveで特定パターンでの2次元動画を実演

2008

直接描画紫外線リソグラフィー用G8192モジュールを製品化

大日本スクリーン製造の傘下に加入

2009

ファンドリーをフリースケールセミコンダクタに移管

ディスプレーでのGLV権利を再獲得

2011

SCREENがG8192モジュールで 半導体直接描画装置DW3000を発表

2013

G8192モジュールがUV光(355nm)の寿命評価で10,000時間を達成

2015

サニーベールでウエハー後工程用としてクラス100のクリーンルーム開設

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