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Silicon Light

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レーザーマーキング

近年、産業用マーキングや材料加工向けのレーザー市場が急成長しています。レーザーの高輝度エネルギーを生かして、溶接、焼結、表面加飾、除去といった加工や、レーザー照射部の材料を変質させる種々の加工が盛んに行われています。現状、これらレーザー加工に使用されている機構としては、ガルバノミラーを使用して加工材料の表面を一本のレーザービームで走査するものがほとんどです。加工に必要な高いエネルギー得る方法としてレーザービームをそのまま集光する方法が簡単でかつ効果的ですが、一本のビームでの描画は生産性に制約を受けてしまいます。近年のレーザーの高出力化に伴い、さらに生産性を上げる新たな手段が考えられるようになってきました。例えば、スキャニングミラーを空間光変調器で置き換えることにより、一本のビームを同時に数百、数千本で走査するビーム列へと代えることができます。この生産性の飛躍には、空間光変調器への高い耐パワー性能が要求されることになります。強固な材料、構造でできているGLVならこの新しいアプリケーションに対応可能です。

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